第277章 Arf光刻(2 / 2)

“老何,辛苦了。”</P>

“阶段性目标的实现,比我想象中要来得早一些……”</P>

“我原来计划可能要10年左右才能突破。”</P>

“正常情况下,是这样。”何融明说:</P>

“老板,不瞒您说,我们原本也认为要花费较长一段时间。”</P>

“只是,一年多以前成功研发krf准分子光刻机后,我们发现研发进度、研发效率在不断提升,试错成本一降再降。”</P>

“尤其是,华卓精科的双工件台,据他们说,几乎每一步都踏在正确的轨道上。”</P>

梁青松接着这个话题继续说:</P>

“老板,华红的研发也很顺利。”</P>

“接手沪微电子的光刻机后,在验证过程中,65纳米Soc芯片一次流片成功率高达90%……”</P>

“节省了大量的研发时间和成本,让研发人员积极性大为提高。”</P>

听完介绍,常乐笑道:</P>

“看来,老天爷都看不下去了,开始垂怜我们了,让我们尽量少走一些弯路。”</P>

曾熙说:“这就是天道酬勤。”</P>

在场的人都笑了起来。</P>

何融明说:“是啊,天道酬勤。dUV光刻机研发成功,给足了我们信心。只要坚持不懈,就一定可以抹平代差。”</P>

“我们与ASmL光刻机的差距客观存在,但至少不是30年、40年这种令人绝望的差距。”</P>

“我们希望能在10年内,基本抹平代差,平起平坐。”</P>

梁青松说:“其实,我们也有优势,那就是沿着ASmL的轨迹走。不用摸着石头过河,试错成本最大限度降到最低。”</P>

常乐点头:“都说的很好。大家有这样的共识,就说明我们的认识一致、行动一致,我们走在一条正确的道路上。”</P>

“伟人曾经说过,雄关漫道真如铁、而今迈步从头越。只要我们心往一处想,力往一处使,就一定能够取得成功。”</P>

沪微电子食堂。</P>

众人聚在一起吃便饭——自助餐。</P>

长条桌上,常乐看到零零散散上百道菜依次排开,囊括东南西北各种口味。</P>

常乐说:“老何,没有搞突击吧。”</P>

何融明摇头:“老板,放心,绝对没有搞突击。”</P>

“食堂我亲自抓,也曾带队去过母公司,还有乐达汽车的食堂,考察过。”</P>

“这么说吧,沪微电子的食堂,应该比母公司只好不差。”</P>

“因为我们高薪组建了厨师班,他们每天换着花样做。”</P>

“您现在看到的,都是平常工程师们的日常水准,逢年过节,厨师班还会超水平发挥一下。”</P>

常乐说:“这就好,研发工作非常耗费脑力和精力,在营养方面必须保障,经费绝对不能省。”</P>

接着,何融明谈到下一步研发重点。</P>

“下一步我们将着重攻坚浸入式步进式投影式光刻机,也就是arfi光刻。”</P>

“目前,我们的供应商启尔电机传来了好消息……”</P>

“他们的浸液系统,已经可以将高精度液体温差控制在0.001度,组件试验进展非常顺利,不久就将向我们供货。”</P>

“一旦自主Arfi光刻机研发成功,那么我们与欧美光刻巨头的代差,将缩小到10年以内,仅一代差距。”</P>

“这不是一个令人绝望的鸿沟。”</P>

arfi光刻与arf光刻系出同源,都是深紫外线dUV光刻机。</P>

区别就在于,前者多了一个浸液系统。</P>

通过该系统,将镜头与硅片之间的空间浸入液体中,在液体光折射作用下,能够使激光的实际波长大幅度缩短。</P>

即193纳米等效缩短到134纳米。</P>

从而,实现7-45纳米工艺制程。</P>

到了这个节点,至少10年内,是绝大多数半导体产品的主流。</P>

听完介绍,常乐问:“大概多久能够研发成功……”</P>

何融明说:“顺利的话,应该会在三年内投向市场,不顺利的话,时间很难估计。”</P>

常乐当即举起酒杯:“好,让我们共同预祝研发顺利!”</P>

“干杯!”</P>

“干杯!”