第422章 EUV难度更大(1 / 2)

三人来到张江开发区,走进SmEE研发大楼,来到一间硕大的车间。</P>

好家伙。</P>

偌大车间,一台巨大的设备占据了大部分空间。</P>

看着线路及零部件密集程度,令人头皮发麻。</P>

“老板,这就是我们研发的duvArfi光刻机,不出意外,应该是目前国内最高水准。”何融明用略带骄傲的口吻介绍道:</P>

“从双工作台、光源系统、曝光系统到物镜系统、光栅系统……任何一个零部件都是国产自主。”</P>

换作八年前,何融明想都不敢想。</P>

这就是资本得当的魔力。</P>

“即便只是dUV光刻机,也是全球唯一一个能独立制造的国家。”梁青松说。</P>

他的神情与有荣焉。</P>

“售价准备多少?”常乐问。</P>

“我们计划3000万美元一台。”何融明说。</P>

嗯,ASmL的dUV光刻机型号不同,价格不同。</P>

dUV价格区间为2000万欧元至6500欧元。</P>

其中,与国产dUV相类似的,售价为6500万美元。</P>

“这是很有竞争力的价格。”常乐点头。</P>

“对,因为全线国产自主,我们的成本可以压到很低。”何融明说。</P>

片刻后,车间内来了很多人。</P>

这些人都是零部件企业和科研机构负责人。</P>

何融明一一向常乐介绍。</P>

常乐一一和这些人握手。</P>

这些企业中,有华卓精科,他们提供双工件台;</P>

有科益虹源,他们提供光源;</P>

有国科精密,提供曝光系统;</P>

有启尔机电,提供浸没系统;</P>

有国望光学,提供物镜;</P>

有沪光所,提供光栅系统;</P>

还有南大光电,他们提供光刻胶;</P>

华特气体提供光刻气体;</P>

华润膜提供光掩膜板;</P>

东方晶源提供缺陷检测系统;</P>

以及,芯源微提供涂胶显影。</P>

正是这些企业的大力研发,才能确保成功研发duv浸没式光刻机。</P>

Smee和ASmL一样,都是系统组合商。</P>

核心技术聚焦设备组合,而不是设备研发。</P>

介绍完且相互认识之后,众人一同来到会议室。</P>

依次坐定,常乐说:</P>

“首先,要感谢各位八年来的不懈努力和辛勤付出。”</P>

“因为你们的砥砺奋进、守望相助,国产光刻机才能在如此短的时间内,实现Krf光刻到ArFi光刻的三级跳,取得了历史性突破。”</P>

“但是,现在还不是我们庆功的时候。”</P>

“新的挑战就在眼前,站在技术迭代的关键十字路口,下一步我们该怎么走,还需要再确定、再出发。”</P>

掌声!</P>

常乐说完这几句话,问何融明:“何总,目前Asml那边EUV光刻机什么进展?”</P>

“据我们所知,应该已经完成原型机研发,但离真正上市商用,还需要时间,具体时间不确定。”何融明说。</P>

“那这么说,我们和Asml的差距不大了?”常乐继续问。</P>

“嗯……单单产品方面看,差距确实不大,甚至我们还更有优势。”何融明解释道:</P>

“但是从技术和产品积累看,我们要走的路还有很长。”</P>

“因为他们研发Euv,走了22年,必然遇到我们想都想不到的问题。这些问题,接下来我们都会遇到。”</P>

“嗯。”常乐点头,继续问:“何总,从duv跨越到Euv难点在哪里?”</P>