第422章 EUV难度更大(2 / 2)

“难点很多,光源、物镜、工作台等等都是非常关键的环节点。”何融明说:</P>

“老板,要不这样,让在座的企业负责人介绍一下?术业有专攻,他们更专业,也更容易解释清楚。”</P>

“行。”常乐点头。</P>

于是,启尔电机负责人先发言:</P>

“常总,何总,我先说说吧。”</P>

“好。”</P>

“首先感谢常总、何总这些年,对启尔电机的关心和支持,没有SmEE的资金支持和帮助,启尔电机不可能走到上市前夜。”</P>

“什么时候上市?”常乐问。</P>

“12月。”</P>

“那我们之前买的那些股票要值钱了。”</P>

“哈哈……”</P>

短暂笑过,启尔电机负责人开始正式介绍情况:</P>

“启尔电机主要为duvArFi光刻提供浸没系统。”</P>

“通过浸没系统和光的折线效应,实现了193纳米到134纳米的等效波长,Arf光刻推进到Arfi光刻才成为可能。”</P>

浸没系统,就是将镜片与硅片之间的空间,浸入特殊液体中。</P>

由于液体折射率大于1,能够使193纳米波长光源缩短至134纳米,从而实现更高分辨率。</P>

也顺带,将光刻工艺节点从45纳米推进到14纳米、10纳米。</P>

“但是……”该负责人话锋一转:</P>

“同样的方法,157纳米波光光源叠加浸入技术后,无法降低波长。”</P>

“所以,进入EUV阶段,就需要更为复杂的技术和手段来实现极紫外光源。”</P>

启尔电机负责人介绍完,科益虹源企业负责人接着说:</P>

“对,进入EUV研发阶段,目前的主流方法,是用准分子激光器照射锡球靶材,获取极紫外光源。”</P>

“要做到这一步,需要时间,难度不小。”</P>

难度有多大?</P>

非常大。</P>

要产生13.5纳米波长的极紫外光源,需要用高功率准分子激发器,以每秒5万次的频率,不断击中一个正在高速运动中的小锡球。</P>

让小锡球温度上升至50万度,变成等离子体,从而产生极紫外光。</P>

这个小锡球大小为三千万之一米,运动速度为321公里\/小时。</P>

“目前,能够提供这种激光器的公司,全球只有一家,德国的通快公司。”</P>

“但是通快公司也不能独立提供,需要北美cymer公司合作和技术授权。”</P>

“此外,还需要立陶宛一家公司提供关键器材。这家立陶宛公司背后又是北美技术授权……”</P>

“所以,在技术方面,我们得不到任何借鉴和支持,还是需要想办法绕开专利限制,慢慢探索。”</P>

光源只是关键困难之一。</P>

国望光学负责人接着说:</P>

“我们负责物镜系统研发,但是,同样需要时间来探索和积累。”</P>

Euv物镜需要理论上的绝对平滑、平整。</P>

镜片起伏只允许一个原子的误差。</P>

这是理论物理的极限。</P>

通俗讲,就是把镜片放大到鲁省大小。</P>

一个病毒落在镜片上,就像拔地而起的高山。</P>

国望光学负责人说完,华卓精科负责人自信说道:</P>

“我们公司负责工作台,正在集中攻坚,应该在不久的将来,可以达成既定目标要求。”</P>

工作台是干什么的?</P>

相当于刻刀。</P>

在指甲盖大小的硅片上,刻画出几百亿个晶体管。</P>

这需要极高精度。</P>

当然,全球也没有任何一个国家能够独立制造。</P>

需要日、韩、北美、德国等诸多国家的专利支持和技术协同。